Model 1050

Vacuum transfer capsule (optional)
An optional vacuum capsule을 사용하면 진공 상태에서 또는 비활성 기체 상태로 시료를 TEM으로 옮길 수 있습니다.

Chamber
The TEM Mill’s vacuum chamber는 작동 중 연속 진공 상태를 유지합니다. 하중 잠금 장치는 시료를 교환하는 동안 높은 챔버의 진공 상태를 주변으로부터 격리시켜 최적의 진공 상태를 보장합니다.

Precise angle adjustment
원하는 milling 각도를 제공하기 위해 이온 소스가 기울어져 있습니다. 연속 조정 가능한 이온 소스 기울기 각도는 -15 ~ +10° 사이입니다. 이 확장 경사각 범위는 슬롯형 그리드에 장착된 표본을 수용합니다. 이온 소스 각도는 왼쪽 및 오른쪽 이온 소스 컨트롤을 사용하여 조정합니다.

TrueFocus 이온 소스를 하나 또는 둘 다 사용하도록 선택할 수 있습니다. 두 이온 소스를 모두 사용하는 경우 빔 각도를 독립적으로 조정할 수 있습니다. 또한 표본 표면 중 하나 또는 둘 다를 이온 milling하도록 선택할 수도 있습니다.

두 이온 빔이 표본의 표면 중 하나로 향하게 되면 milling 속도가 두 배가 됩니다. 이 기능은 표본의 후면 박리 또는 평면 연마와 같은 용도에 유용합니다. 이온 선원을 두 표본 표면을 동시에 milling하도록 설정하면 스퍼터 물질이 다시 배치되지 않습니다.

Automated milling angle adjustment (optional)
터치 스크린을 사용한 자동 milling 각도 조정은 TEM Mill에 사용할 수 있는 옵션입니다. 이 기능을 추가하면 milling 프로세스 전체에 걸쳐 milling 각도의 자동 조정이 포함된 다중 스텝 milling 시퀀스를 만들 수 있습니다.

Programmable specimen motion
시료 회전은 면 내이고 360° 내내 지속됩니다.

TEM Mill은 이종 재료 또는 적층 재료로 XTEM 시편을 준비하는 데 이상적입니다. 이온 빔과 관련된 표본 움직임 제어는 우선 milling을 최소화하며, 이는 XTEM 표본에 글루 본드 라인이 존재하거나 더 낮은 원자 번호(Z) 재료가 적층 복합 재료 표본에 포함되어 있을 때 발생할 수 있습니다.

시료의 바닥 표면을 milling할 때 이온 빔 시퀀싱은 시료 홀더가 이온 빔과 일치하는 각도로 회전할 때 시료에 대한 이온 흐름을 전기적으로 방해합니다. 이렇게 하면 표본 홀더가 스퍼터링되지 않습니다. 또한 표본은 인터페이스 또는 글루 라인이 이온 빔의 방향에 평행하지 않도록 이온 빔에 대해 흔들 수 있습니다. 일반적으로 ±40 ~ ±60 ̊의 흔들림 각도가 사용됩니다.

Integrated stage cooling (optional)
낮은 이온 빔 에너지를 사용하여 낮은 각도에서 milling할 경우 시료를 가열할 수 있지만 온도에 민감한 표본은 추가적인 냉각이 필요할 수 있습니다. 시료 단계에서 액체질소 냉각은 열 유발 아티팩트를 제거하는 데 매우 효과적이다. TEM 밀은 -170 °C 이상의 온도를 달성할 수 있습니다.

The TEM Mill’s liquid nitrogen system은 enclosure 내에 완전히 통합되어 있고 서로 연결되어 있는 dewar를 특징으로 합니다. The dewar은 접근하기 쉽도록 작업자 근처에 위치한다. 2가지 난로 옵션이 제공됩니다. 즉, 이온 milling 중 냉각 시간이 3~5시간 필요한 애플리케이션의 표준 난로 또는 극저온 조건에서 18시간 이상의 작동이 필요한 애플리케이션의 경우 연장된 난로 옵션이 제공됩니다. 터치 스크린에 온도가 계속 표시됩니다.

Programmable temperature
SEM Mill은 주변 온도와 극저온 사이에서 특정 온도를 프로그래밍하고 유지하는 기능을 제공합니다. 극저온 온도에서 milling할 경우, 시료의 서리 및 오염을 방지하기 위해 환기를 하기 전에 단계 온도가 주변으로 자동으로 증가합니다.
열 안전장치는 전장에서 액체 질소가 고갈되면 이온 공급원이 비활성화되는 특정 단계 온도 임계값으로 프로그래밍할 수 있습니다.

Automatic termination
The ion milling process는 경과 시간, 온도 또는 레이저 광검출 시스템(옵션)에 의해 자동으로 종료될 수 있습니다.

Time
A timer는 미리 결정된 시간 동안 milling 작업을 지속한 다음 시간이 경과하면 이온 소스로의 에너지를 끕니다. 시료는 하중 잠금 장치가 환기될 때까지 진공 상태를 유지한다.

Temperature
시료의 상온이 미리 설정된 온도에 도달하면 시료의 냉각 시스템과 관련된 열 안전장치는 공정을 정지시킵니다.

Autotermination (optional)
A laser light source and a photodetector sense transmission of light through the specimen.
. 프로그램 가능한 민감도 제어는 시료가 반투명해질 때 이온 milling 프로세스를 자동으로 중지합니다.

In situ specimen viewing
션 스테레오 또는 고화질의 현미경을 사용할 경우 이온 밀링 프로세스를 milling위치에서 모니터링할 수 있습니다.
보기 창은 셔터에 의해 보호되며, 이는 표본 관찰을 방해할 수 있는 산만한 물질의 축적을 방지합니다.

Stereo microscope (optional)
A stereo microscope (7 to 45 X) (7~45X)은 시료를 더욱 돋보이게 합니다. 현미경의 긴 작동 거리는 시료를 milling하는 동안 시공간에서 관찰하도록 합니다.

High magnification microscope (optional)
TEM Mill은 CCD camera and video 모니터에 연결된 1,960 X의 고화상 현미경으로 구성하여 milling 중 시편을 보고 이미지를 캡처할 수 있습니다. 이 시스템은 현장 고유 시료 준비에 이상적입니다.

Specimen illumination
표본 아래에 위치하는 빛은 사용자가 조절할 수 있는 전달된 표본 조명을 제공합니다.
고화질의 현미경과 스테레오 현미경 모두 하향식, 사용자 조절식 반사식 샘플 조명을 제공하는 광원을 가지고 있습니다.